Увлажняющая маска Christina Unstress Optimal Hydration Mask 250 мл

Увлажняющая маска Unstress Optimal Hydration Mask (шаг 8) создана для восстановления кожи и повышения ее устойчивости к внешним раздражителям. Этот профессиональный уход эффективно устраняет признаки усталости, способствует улучшению текстуры и придает коже здоровый, сияющий вид. Маска насыщает ткани влагой, повышает эластичность и помогает предотвратить появление морщин. Продукты линии Unstress поддерживают иммунные процессы в коже и защищают от преждевременного старения, укрепляя клеточные мембраны и ДНК.

Активные ингредиенты

- Экстракты зародышей пшеницы и календулы, церамиды и пептиды насыщают клетки влагой, витаминами и питательными веществами.

Способ применения

Нанести Christina Unstress Optimal Hydration Mask однородным слоем на кожу лица, шеи и декольте, оставить на 10 минут, сделать легкий массаж до полного впитывания средства и удалить остатки влажным полотенцем.

Состав

Deionized water (Aqua), Cetearyl Ethylhexanoate, Caprylic/Capric Triglyceride, Glycerin, Phenoxyethanol, Carbomer, Stearyl Alcohol, Triethanolamine, Tocopheryl Acetate, Chlorphenesin, Alpha-Glucan Oligosaccharide, Ethylhexylglycerin, Collagen, Linoleic Acid, Sodium hyaluronate, Triticum Vulgare (Wheat) Germ Oil, Perfume, Polymnia Sonchifolia Root Juice, Oleic Acid, Propylene Glycol, Butylene Glycol, Maltodextrin, Olive Glycerides, Plukenetia Volubilis Seed Oil, Honey Extract, Sodium PCA, Caprylyl Glycol, 1,2-Hexanediol, Linum Usitatissimum(Linseed) Seed Extract, Ceramide NP, Polyglyceryl-5 Oleate, Sodium Benzoate, Lactobacillus, Hydrolyzed Elastin, cyanocobalamin, FD&C Blue NO. 1 (CI 42090), Linolenic Acid, Glycogen, Serine, Sorbic Acid, Tocopherol, FD&C Yellow NO. 5 (CI 19140), Benzyl Salicylate, Dipeptide-4.